Laboratorio di crescita nanomateriali

Breve descrizione

È un laboratorio in cui vengono svolte attività di ricerca, in particolare crescita di materiali nanostrutturati con metodi fisici: condensazione in fase gassosa di nanoparticelle con sorgenti termiche di evaporazione e deposizione di film sottili e multilayers mediante magnetron sputtering. Le tipologie di materiai preparati comprendono metalli, leghe metalliche, ossidi e idruri. 

Ambiti di Ricerca

• Materiali nanostrutturati per la conversione e lo stoccaggio di energia

Strumentazione

• Camera da ultra-alto vuoto per la preparazione di nanoparticelle e nanomateriali mediante condensazione in fase gassosa, equipaggiata con:
  • Due sorgenti di evaporazione termica (max 1000 A / 8 V)
  • Monitor con microbilancia al quarzo
  • Spettrometro di massa a quadrupolo per analisi di gas
  • Due controllori di flusso per immissione controllata di gas
  • Sistema di controllo basato su PC
• Camera da ultra-alto vuoto per le deposizione di film sottili e multistrati, equipaggiata con:
  • Tre catodi per magnetron sputtering con diametro 2"
  • Due alimentatori Radio-Frequenza
  • Un alimentatore DC
  • Porta campioni rotante e riscaldato
  • Ingresso ossigeno per sputtering reattivo

• Atomic Layer Deposition System:
• L' ALD (Atomic Layer Deposition) consente di depositare film sottili nanometrici con spessore controllato atomicamente. Viene utilizzato principalmente per passivare fotoelettrodi, migliorando la stabilità e l'efficienza, e per realizzare rivestimenti conformi su superfici complesse