Thin film deposition - TFD

Breve descrizione

È un laboratorio in cui vengono svolte attività di ricerca e didattica, a livello della laurea magistrale in Physics è utilizzato dai laureandi. Si effettuano deposizioni da fase vapore di elementi metallici su superfici di semiconduttori per realizzazione di contatti, in vuoto. Si effettuano inoltre fasi di preparazione di campioni di semiconduttori: preparazione superfici, taglio, lappatura delle superfici, attacchi chimici sotto cappa. 
Nel laboratorio sono presenti: Impianti da vuoto (pompa rotativa, turbomolecolare), strumenti per la preparazione dei campioni e delle superfici (sega diamantata, lappatrice), cappa chimica e armadio per contenere i solventi e gli acidi per gli attacchi chimici.  

Ambiti di ricerca 

• Analisi di difetti in silicio 
• Analisi di difetti, interfacce e superfici in semiconduttori III.N  
• Analisi di difetti, superfici in perovskiti 

Strumentazione

• Impianto da vuoto 
• Armadio per infiammabili 
• pompa rotativa e turbomolecolare 
• crogiolo evaporatore 
• Cappa chimica 
• Sega a filo 
• Lappatrice  

Insegnamenti e formazione

Il laboratorio IVD offre le proprie risorse a supporto di: 

• Sviluppo di tesi di laurea (LM in Physics, curriculum MANO) 

• Sviluppo di progetti di ricerca di dottorandi e studenti post-dottorato